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勻膠勻膠機(jī)的工藝特點(diǎn)

更新時(shí)間:2024-03-28       點(diǎn)擊次數(shù):1418
  勻膠勻膠機(jī)是一種常見用于材料薄膜制備工藝的實(shí)驗(yàn)室設(shè)備,它的原理相對(duì)比較簡單,利用電機(jī)高速旋轉(zhuǎn)時(shí)所產(chǎn)生的離心力使得試液或者膠液均勻地涂敷在基底材料的表面,顧名思義,一種可以“讓膠液均勻涂敷的機(jī)器”。
 
  按自動(dòng)化程度可分為:
 
  a)自動(dòng)勻膠設(shè)備;b)半自動(dòng)勻膠設(shè)備。
 
  2按有無烘干方式分為:
 
  a)帶烘干裝置的勻膠設(shè)備;b)不帶烘干裝置的勻膠設(shè)備。
 
  3按加工基片幾何形狀可分為:
 
  a)圓片勻膠設(shè)備;b)方片勻膠設(shè)備。
 
  勻膠勻膠機(jī)的工藝特點(diǎn)要求硅片在托盤真空吸力的作用下隨主軸一起高速旋轉(zhuǎn),因此勻膠托盤的幾何參數(shù)將對(duì)被吸附的硅片形變產(chǎn)生一定的影響,而過大的硅片形變將影響其表面形貌和平面度,從而影響光刻膠的均勻性。通過數(shù)值解和解析解,指出隨著勻膠膜厚的變薄,其受表面形貌的影響將增大;通過數(shù)學(xué)模型和計(jì)算機(jī)模擬分析了離心轉(zhuǎn)數(shù)等參數(shù)對(duì)旋涂性能的影響規(guī)律,并通過實(shí)驗(yàn)分析指出基底不平將直接導(dǎo)致涂膠均勻性變差,從而使集成電路芯片顯影后線條黑白比改變。

 

勻膠勻膠機(jī)

 

  控制和顯示:
 
  1.非常方便設(shè)定處理速度和加速度程序段;可設(shè)置順序循環(huán)控制;
 
  2.顯示精度控制在設(shè)定值的0.006%以內(nèi);
 
  3.操作者可隨時(shí)隨地自由實(shí)現(xiàn)人機(jī)交互。
 
  勻膠勻膠機(jī)既然是科研開發(fā)上制備薄膜材料*的方法之一使用者對(duì)于該設(shè)備大的期待就在于其能夠“均勻”地涂敷試液或者膠液。通常我們會(huì)用均一性和可重復(fù)性來衡量薄膜材料制備的好壞。
 
  勻膠勻膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn):
 
  *采用閉環(huán)控制伺服電機(jī),數(shù)字式增速信號(hào)反饋,速勻準(zhǔn)確,壽命長,保證勻膠均勻。
 
  *5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標(biāo)配10個(gè)勻膠梯度階段(速度和時(shí)間梯度設(shè)置),可選配10個(gè)可編程程序,每個(gè)程序下可設(shè)置10個(gè)勻膠梯度階段,最多100個(gè)階段。
 
  *內(nèi)置水平校準(zhǔn)裝置,限度的保證旋涂均勻,可對(duì)大小不同規(guī)格的基片進(jìn)行旋涂。
 
  *多重安全保護(hù)
 
  電磁安全開關(guān),蓋子打開卡盤停止,保證安全;
 
  蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開傷人;
 
  雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,限度保證實(shí)驗(yàn)人員安全。
 
  *一機(jī)兩用,根據(jù)不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
 
  *不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,PTFE旋涂腔體,聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤,PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運(yùn)行。
 
  *適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。
 

勻膠勻膠機(jī)

 

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